고분자를 덮어놓은 기판을 접촉시키고, 고분자의 유리온도(Tg)보다 90~100°C 정도 더 높게 가열하여 고분자에 유동성을 제공한다. 이 상태에서 고압을 걸어주게 되면 부드러워진 고분자가 패턴사이로 채워지게 됨으로 패턴이 기판위에 전사되고 이후 고분자의 Tg이하로 온도를 낮추게 되면 패턴이 고정된
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
2. 본 론
고분자의 기능성과 그것을 응용하고 있는 사례들은 너무나도 많다. 그 중에서 몇가지 관심을 가질 수 있는 기능성 고분자 필름에 대해서 조사하고 정리를 해 보았다. 포장 필름과 광학 필름에 대해 알아보고, 그에 대한 각자의 관심이 있는 분야을 알아보자.
1. 포장 필름
1) 포장의 기능
Dip-pen Lithography
1. 서론
과학의 방향이 원자 크기대의 극소형의 것을 대상으로 하게 됨에 따라 이들을 관찰하고 조작하고 또 그 성질과 양을 이해하기 위해서는 나노 테크놀로지를 필요로 하게 되었다. 이러한 나노 테크놀로지는 1982년 스위스의 Binnig Rhorer 박사가 개발한 Scanning tunneling microscopy(STM
NEC는 최근 카본나노튜브(이하 CNT)의 한 종륲인 카본나노혼(CNH)을 촉매담지전극에 사용하므로써 이와 같은 휴대용 연료전지의 성능을 향상시킬수 있음을 보였다.
카본나노튜브는 1991년에 이이지마에 의해 발견된 것으로 지금은 나노기술의 대표적인 소재로서 세계의 주목을 받고 있다. 그 한 종류
beam)을 표본의 표면에 주사한다. 주사된 전자선이 표본의 한 점에 집중되면 일차전자만 굴절되고 표면에서 발생된 이차전자는 검파기(detector)에 의해 수집되어 그 결과 생긴 신호들이 여러 점으로부터 모여들어 음극선관(cathod ray tube)에 상을 형성한다. 주사전자현미경의 특징은 초점이 높은 심도를 이
발광층
발광층을 형성하는 데 있어 대부분의 경우 host와 dopant를 동시에 증착하며 녹색과 적색의 경우 host로 Alq3을 사용한다. 녹색 형광은 Alq3에 MQD, Coumarine 등을 1% 정도 도핑하여 얻게 된다. Alq3 자체도 녹색 발광을 하지만 도핑을 통하여 2배 이상의 효율 증가를 이룰 수 있다.
DCJTB는 효율이 뛰어난 적
1. 서론
지난 30년간 리소그래피 기술은 반도체 소자의 발전과 더불어 광 투사 리소그래피(Optical Projection Lithography) 기술을 중심으로 지속적인 발전을 거듭하였다. 그리하여 지금 193 nm의 광 투사 리소그래피를 이용하여 100 nm 이하의 선 폭을 형성할 수 있는 수준에 이르렀다. 그러나 반도체 기술은 앞으
In2O3에 Sn을 10% 정도 포함한 n-type 반도체 재료로서 다른 투명 박막에 비하여 Sn의 첨가로 인한 매우 낮은 전기저항과 안정성 때문에 사용되어 지고 있다. 비저항이 1 × 10-3Ώ/cm이하, 면 저항이 103Ώ/sq 이하로 전기전도성이 우수하다. 그리고 ITO가 도포된 유리기판상의 각 화소를 포토리소그래피 공정